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一種TPU復(fù)合面料的制作方法
背景技術(shù):
織物是用來(lái)制作衣服的材料。面料作為服裝的三個(gè)要素之一,不僅能詮釋服裝的風(fēng)格和特點(diǎn),還能直接影響服裝的顏色。造型的性能效果。1969年,美國(guó)發(fā)展成為一種防水性能良好的薄膜。優(yōu)越的透濕性、防風(fēng)性和耐濕性。吸濕后不增重。該材料是以聚四氟乙烯樹(shù)脂為原料,經(jīng)拉伸形成的微孔膜。隨著PTFE薄膜的出現(xiàn),成功開(kāi)發(fā)了由PTFE薄膜和織物制成的防水透濕壓織物。
現(xiàn)有織物耐磨性和拉伸性能差,現(xiàn)有織物不具有阻燃性能,現(xiàn)有織物夜間不具有發(fā)光功能,功能相對(duì)單一。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的是提供TPU面料,以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了以下技術(shù)方案:TPU織物,包括外殼,外殼為內(nèi)空心結(jié)構(gòu),外殼底部有腿,外殼在內(nèi)空心結(jié)構(gòu)頂部,外殼底部中心,外殼頂部有冷卻室,冷卻室底部有電機(jī),電機(jī)主軸貫穿冷卻室。下表面和外殼的上表面,延伸到外殼的中空結(jié)構(gòu),主軸底部有旋轉(zhuǎn)葉片。
出料口的中心線與殼體內(nèi)鏤空結(jié)構(gòu)的中心線相同。
優(yōu)選,冷卻室配有液態(tài)水,冷卻室與主軸接觸部分之間設(shè)有密封墊。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置皮革和TPU層,提高織物的耐磨性和拉伸性能,夜光層可在夜間發(fā)光,使織物更加華麗,儲(chǔ)存層可吸收陽(yáng)光或光能,黑暗可釋放光,通過(guò)設(shè)置阻燃層,提高織物的阻燃性能,通過(guò)設(shè)置抗靜電層,可提高織物的抗靜電性能,提高織物的舒適性。
具體實(shí)施方法。
以下將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,明確本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案。完整的描述顯然,所描述的實(shí)施例只是本實(shí)用新型的一部分,而不是所有的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下獲得的所有其他實(shí)施例均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
請(qǐng)參閱圖1-2。本實(shí)用新型提供的一個(gè)實(shí)施例:一種TPU織物,包括織物主體1,織物主體1包括夜光層2。儲(chǔ)光層3。粘接層4和基材層5?;膶?上表面設(shè)有粘接層4。粘接層4上表面設(shè)有儲(chǔ)光層3。儲(chǔ)光層3可吸收陽(yáng)光或光線的能量,光線可在黑暗中釋放。儲(chǔ)光層3上表面設(shè)有夜光層2。夜光層2可在夜間發(fā)光,使織物更加華麗?;膶?包括革51.TPU層53和刻字膜54;TPU層53一側(cè)設(shè)有革51;TPU層53另一側(cè)設(shè)有刻字膜54;刻字膜54遠(yuǎn)離TPU層53一側(cè)設(shè)有抗靜電層55;抗靜電層55增加了織物的抗靜電性能,提高了織物的舒適性。革51和TPU層53之間設(shè)有阻燃層52;阻燃層52提高了織物的阻燃性能。
具體使用方法:在本實(shí)用新型工作中,革51和TPU層53提高了織物的耐磨性和拉伸性。夜光層2可在夜間發(fā)光,使織物更加華麗。儲(chǔ)光層3可吸收陽(yáng)光或光線的能量,并在黑暗中釋放光線。通過(guò)設(shè)置阻燃層52,可以提高織物的阻燃性能,通過(guò)設(shè)置抗靜電層55,可以提高織物的抗靜電性能,提高織物的舒適性。
對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),很明顯,本實(shí)用新型并不局限于上述示范實(shí)施例的細(xì)節(jié),本實(shí)用新型可以以其他具體形式實(shí)現(xiàn),而不偏離本實(shí)用新型的精神或基本特征。因此,無(wú)論從哪個(gè)角度來(lái)看,實(shí)施例都應(yīng)被視為示范性和非限制性。本實(shí)用新型的范圍由附加的權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明所限制。因此,本實(shí)用新型旨在包括權(quán)利要求相同要素的含義和范圍內(nèi)的所有變化。權(quán)利要求中的任何附圖都不應(yīng)被視為限制所涉及的權(quán)利要求。